特許
J-GLOBAL ID:201103068577578807
微細セラミックス構造体およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 伊藤 英彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-163760
公開番号(公開出願番号):特開2000-353835
特許番号:特許第4395922号
出願日: 1999年06月10日
公開日(公表日): 2000年12月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】樹脂型にセラミックススラリーまたはセラミックスはい土を充填して、乾燥固化させた後、前記樹脂型を除去し、焼成することにより、微細セラミックス構造体を製造する方法であって、
プラズマエッチングを用いることにより、前記樹脂型を除去するとともに、前記微細セラミックス構造体の比誘電率を制御することを特徴とする、微細セラミックス構造体の製造方法。
IPC (4件):
H01L 41/24 ( 200 6.01)
, B28B 1/14 ( 200 6.01)
, H01L 41/187 ( 200 6.01)
, H01B 19/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 41/22 A
, B28B 1/14 G
, H01L 41/18 101 D
, H01B 19/00 331
前のページに戻る