特許
J-GLOBAL ID:201103068617541804

感光性ガラス基板を利用したマイクロ構造物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-083593
公開番号(公開出願番号):特開2000-301500
特許番号:特許第3360065号
出願日: 2000年03月24日
公開日(公表日): 2000年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】 感光性ガラス基板上に透光部及び遮光部からなるマスクパターンを形成する段階と、前記感光性ガラス基板を310nmの紫外線のとき20J/cm2の露光エネルギーで露光する段階と、前記感光性ガラス基板に熱処理を施すことにより前記感光性ガラス基板の露光部の組織を緻密な構造に変化させ、非露光部の組織を欠陥の多い組織構造に変化させる段階と、前記感光性ガラス基板の非露光部をエッチングする段階とを有することを特徴とする感光性ガラス基板を利用したマイクロ構造物の製造方法。
IPC (3件):
B81C 1/00 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02
FI (3件):
B81C 1/00 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
引用特許:
審査官引用 (2件)

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