特許
J-GLOBAL ID：201103068689184917
基板を処理するための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山田 卓二
, 田中 光雄
, 中野 晴夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-512620
特許番号：特許第4651252号
出願日： 2000年07月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ガス雰囲気中に配置され、処理流体(20)を含み、基板(3)を直線的に導通させるために処理流体の表面より下に位置し、プロセス容器(8)中に存在する処理流体(20)の流出を防げるような形状を有する少なくとも2つの開口(15、16)を含み、開口(15、16)より下に処理流体の流入部(22)を有し、更に、開口(15、16)より上に処理流体のオーバフロー部(17、42、44)を有する、少なくとも1つのプロセス容器(8)を備えた、基板(3)を処理するための装置(1)であって、
プロセス容器(8)は、開口(15、16)と、流入部(22)と、オーバフロー開口(17)とを備えた容器ボディ(14)で形成され、
オーバーフロー開口(17)は、密閉されたオーバーフロー容器(42)により囲まれ、オーバーフロー容器(42)は、開口(15、16)より上に、シールするように容器ボディ(14)の外部周囲に取り付けられ、
オーバフロー開口(17)とオーバーフロー容器(42)はオーバーフロー部を形成し、そして容器ボディ(14)と共に処理流体の表面上に閉じた空間(40)を形成し、
閉じた空間(40)中で負圧を形成するユニット(37)を有することを特徴とする、基板を処理するための装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B08B 3/12 ( 200 6.01)
H01L 21/304 642 D
, H01L 21/304 642 E
, B08B 3/12 D
