特許
J-GLOBAL ID：201103068711529761
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346316
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166485
特許番号：特許第3969916号
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(I)で示される繰り返し構造単位と、一般式(II)で示される繰り返し構造単位の両方を有する酸分解性ポリシロキサンを含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
一般式(I)
Lは-A-NHCO-、-A-NHCOO-、-A-NHCONH-から選択される少なくとも1つの2価の連結基を表す。Aは単結合、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Xは単結合または2価の連結基を表す。
Zは
で表される基のいずれか一方を表す。
Yは水素原子を表すか、または、Yはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Yが示す原子団は、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状でもよい。Rは水素原子を表す。又は、Rは酸で分解する基を表す。lは1〜3の整数、mも1〜3の整数を表す。
一般式(II)
上記A’、X’、Z’はそれぞれ一般式(I)のA、X、Zが総称する範囲と同一の範囲を総称する。
IPC (3件)：
G03F 7/075 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/075 511
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
