特許
J-GLOBAL ID：201103068938091762
残存シリコン融液の除去方法、単結晶シリコンの製造方法、単結晶シリコンの製造装置及び残存シリコン融液吸引器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 村山 靖彦
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-206100
公開番号（公開出願番号）：特開2011-057471
出願日： 2009年09月07日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：
【課題】チャンバ内に配置された坩堝に残存する残存シリコン融液を除去して冷却過程における坩堝の割れを防止し、坩堝の再利用を図ることが可能な残存シリコン融液の除去方法、単結晶シリコンの製造方法、単結晶シリコンの製造装置及び残存シリコン融液吸引器を提供する。【解決手段】チャンバ11の内部に配置された坩堝20内に残存したシリコン融液Mを除去する残存シリコン融液の除去方法であって、吸引した残存シリコン融液が貯留される貯留空間を備えた本体部72と前記貯留空間に連通するノズル部とを備えた残存シリコン融液吸引器70を、ノズル部が坩堝20内の残存シリコン融液Mに浸漬されるようにして配置し、チャンバ11内にガスを導入してチャンバ11内の圧力を昇圧し、チャンバ11内と前記貯留空間内との差圧によって、残存シリコン融液Mを前記貯留空間へと吸引することを特徴する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
チャンバの内部に配置された坩堝内に残存したシリコン融液を除去する残存シリコン融液の除去方法であって、
吸引した残存シリコン融液が貯留される貯留空間を備えた本体部と前記貯留空間に連通するノズル部とを備えた残存シリコン融液吸引器を、前記ノズル部が前記坩堝内の残存シリコン融液に浸漬されるようにして配置し、
前記チャンバ内にガスを導入してチャンバ内の圧力を昇圧し、前記チャンバ内と前記貯留空間内との差圧によって、前記残存シリコン融液を前記貯留空間へと吸引することを特徴する残存シリコン融液の除去方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C30B29/06 502D
, C30B15/00 Z
4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CF10
, 4G077EG01
, 4G077EG30
, 4G077HA12
, 4G077PA11
