パターン形成体の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山下昭彦 , 岸本達人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-053774
公開番号（公開出願番号）：特開2000-249821
特許番号：特許第3679943号
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層を接触、または光触媒の作用が及ぶように間隙をおいて配置した後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。

IPC (2件)：