特許

J-GLOBAL ID：201103069246010343

膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料

発明者： 岡田 敬 ,  西川 通則 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-097559
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279169
特許番号：特許第4497254号
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記式(1)に示す繰り返し単位を5モル%以上有する重合体を含有することを特徴とする膜形成用組成物。 〔式(1)中、Xは-CQQ′-(ここで、Q,Q′ は同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリールアルキル基、またはアリール基を示す)で表される2価の有機基およびフルオレニレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種を示し、R1〜R4は同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリールアルキル基、アリル基、またはアリール基を示し、R5〜R8は同一でも異なっていてもよく、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリールアルキル基、アリル基、またはアリール基を示し、a〜dは0〜4の整数を示し、eは0〜4の整数であり、mは1〜99モル%、nは99〜1モル%(ただし、m+n=100モル%)である。〕

IPC (3件)：

C09D 165/00 ( 200 6.01) ,  C08G 61/12 ( 200 6.01) ,  H05K 3/46 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C09D 165/00 ,  C08G 61/12 ,  H05K 3/46 T

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポリフェニレンコポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-290789   出願人：マクスデムインコーポレイティド
• 集積回路絶縁体及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-345669   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド