特許
J-GLOBAL ID:201103069596938837

光触媒の再生方法及び光触媒による脱臭装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-108622
公開番号(公開出願番号):特開平2-284629
出願日: 1989年04月26日
公開日(公表日): 1990年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】大気中に浮遊する高沸点物質や塵埃に汚染された光触媒表面に、清浄空気をあてながら5mW/cm2以上の紫外線を照射することにより、汚染物質を取り除く光触媒の再生方法。
IPC (4件):
B01D 53/36 ZAB H 9042-4D ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 116 Z ,  B01J 38/00 ZAB Z 7821-4G

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