特許
J-GLOBAL ID：201103070384024922
光学多層膜干渉フィルタの作製装置および作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-096833
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296413
特許番号：特許第4502540号
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に多層膜を堆積して光学多層膜フィルタを作製する装置であり、
1枚の前記基板を搭載しかつ前記基板をその中心軸周りに回転するように設けられた基板ホルダと、第1誘電体膜材料のターゲットと、第2誘電体膜材料のターゲットとを備え、前記第1誘電体膜材料の前記ターゲットと前記第2誘電体膜材料の前記ターゲットは前記基板ホルダの回転軸から外れた位置に設けられ、選択された前記ターゲットを使用して前記基板の表面に対してスパッタリング成膜が行われる成膜チャンバと、
前記成膜チャンバに放電発生用プロセスガスを導入するガス導入機構と、
前記成膜チャンバの内部で低圧力放電を発生させる低圧力放電発生機構と、
前記第1誘電体膜材料のターゲットと前記第2誘電体膜材料のターゲットの使用を切り換えるシャッタ機構とを備え、
前記成膜チャンバ内に前記基板を搬入して前記基板ホルダ上に搭載し、前記ガス導入機構で導入された前記プロセスガスを用いてかつ前記低圧力放電発生機構で前記低圧力放電を発生させ、前記シャッタ機構でターゲットを交互に選択して低圧力放電スパッタリングに基づき前記基板上に第1誘電体膜と第2誘電体膜を交互に堆積して誘電体多層膜を形成したことを特徴とする光学多層膜干渉フィルタの作製装置。
IPC (2件)：
G02B 5/28 ( 200 6.01)
, C23C 14/06 ( 200 6.01)
