特許
J-GLOBAL ID：201103070485794214
被覆顔料及びそれを含有する化粧料
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
, 伊藤 健
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-330952
公開番号（公開出願番号）：特開2001-146557
特許番号：特許第4354594号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式1
(但し、RCOは炭素原子数8から22の脂肪酸残基であり、AはOHまたはカルボキシル基が置換してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン鎖であり、nは2〜6の整数であり、Yはカルボキシル基)で示される2鎖2親水基含有化合物の遊離酸で被覆処理された被覆顔料。
IPC (2件)：
C09C 3/08 ( 200 6.01)
, A61K 8/00 ( 200 6.01)
