特許

J-GLOBAL ID：201103070494496129

マイクロレンズアレイ用基材、その製造方法、マイクロレンズアレイ用基材の成形用金型、および、マイクロレンズアレイ

発明者： 張 軍
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 瀧野 秀雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-205968
公開番号（公開出願番号）：特開2011-059185
出願日： 2009年09月07日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：

【課題】マイクロレンズアレイ用基材に遮光部を設ける際に、マスキングなどの前処理を不要としながら、塗布むらやレンズ有効領域部分への塗布ミスなしに歩留まりよく、しかも、効率よく遮光部を設けることができるマイクロレンズアレイ用基材を提供する。【解決手段】複数のレンズが設けられたマイクロレンズアレイ用基材において、液状の遮光部形成剤を前記レンズの間に導くための遮光部形成補助溝が、遮光部形成部に設けられている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のレンズが設けられたマイクロレンズアレイ用基材において、液状の遮光部形成剤を前記レンズの間に導くための遮光部形成補助溝が、遮光部形成部に設けられていることを特徴とするマイクロレンズアレイ用基材。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  B29C 33/42 ,  B29C 39/02

FI (4件)：

G02B3/00 A ,  G02B3/00 Z ,  B29C33/42 ,  B29C39/02

Fターム (21件)：

4F202AA21 ,  4F202AC03 ,  4F202AF14 ,  4F202AG28 ,  4F202AH75 ,  4F202AJ09 ,  4F202AR12 ,  4F202CA09 ,  4F202CB01 ,  4F202CD18 ,  4F202CD22 ,  4F202CK90 ,  4F204AA44 ,  4F204AH73 ,  4F204AH75 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EF27 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24