特許
J-GLOBAL ID：201103070592525838

光学補償フイルムの製造方法

発明者：
伊藤 洋士

伊藤 洋士 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354133
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156527
特許番号：特許第4316131号
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平均酢化度が59.0乃至61.5%の範囲にあるセルロースアセテート、およびセルロースアセテート100質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を0.01乃至20質量部含む溶液を流延してセルロースアセテートフイルムを製膜する工程;セルロースアセテートフイルムを二軸延伸して、セルロースアセテートフイルムの、厚みを10乃至50μmの範囲に、下記式(I)により定義されるReレターデーション値を0乃至20nmの範囲に、そして下記式(II)により定義されるRthレターデーション値を30乃至70nmの範囲に調整する工程;そして、セルロースアセテートフイルム上に、光学的に正の一軸性を示す液晶性化合物から実質的に形成され、液晶性化合物の液晶状態におけるネマチックハイブリッド配向構造を固定してなる光学異方性層を設ける工程からなることを特徴とする光学補償フイルムの製造方法: (I) Re=(nx-ny)×d (II) Rth={(nx+ny)/2-nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そして、dは、フイルムの厚さである]。
IPC (8件)：
G02B 5/30 ( 200 6.01) ,  B32B 7/02 ( 200 6.01) ,  B32B 23/04 ( 200 6.01) ,  C08J 7/04 ( 200 6.01) ,  C08K 5/3492 ( 200 6.01) ,  C08L 1/12 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1335 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1336 ( 200 6.01)
FI (8件)：
G02B 5/30 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 23/04 ,  C08J 7/04 CEP Z ,  C08K 5/349 ,  C08L 1/12 ,  G02F 1/133 510 ,  G02F 1/133 3
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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