特許
J-GLOBAL ID:201103070660785258

プラズマCVD装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 安田 敏雄 ,  安田 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-238535
公開番号(公開出願番号):特開2011-084780
出願日: 2009年10月15日
公開日(公表日): 2011年04月28日
要約:
【課題】 プラズマCVD装置において、皮膜の脱落や基材への傷つきを防止した上で、成膜ロールの端部に皮膜が形成されることを防止する遮蔽部材を容易に交換できるようにする。【解決手段】本発明のCVD装置1は、真空チャンバ3と真空チャンバ3内に配備されると共に電源4の両極が接続され且つ各々に成膜対象であるシート状の基材Wが巻き掛けられる成膜ロール2と成膜ロールの端部9をプラズマから遮蔽する遮蔽部材5とを備えたものであり、遮蔽部材5は成膜ロールの端部9表面の周方向に沿うような湾曲形状で成膜ロール2とは別の部材とされていて、遮蔽部材5と成膜ロール2とは一定のクリアランス10を有するように配備されると共に互いが同電位に保持されていて、このクリアランス10はシート状の基材Wが差し込み可能であると共にプラズマ11が成膜ロール2の端部側まで進入することを防止可能な距離に設定されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
真空チャンバと、当該真空チャンバ内に配備されると共に電源の両極が接続され且つ各々に成膜対象であるシート状の基材が巻き掛けられる真空チャンバから絶縁された成膜ロールと、前記基材が巻き掛けられていない成膜ロールの端部を、成膜ロール近傍に発生したプラズマから遮蔽する遮蔽部材と、を備えたプラズマCVD装置であって、 前記遮蔽部材は、前記成膜ロールとは別の部材からなると共に、前記成膜ロールの端部表面の周方向に沿うような湾曲形状とされていて、 前記遮蔽部材と当該遮蔽部材が取り付けられる成膜ロールとは、一定のクリアランスを有するように配備されると共に、互いが同電位に保持されていて、 前記クリアランスは、前記シート状の基材が差し込み可能であると共に前記プラズマが成膜ロールの端部側まで進入することを防止可能な距離に設定されていることを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (3件):
C23C 16/503 ,  C23C 16/54 ,  H05H 1/46
FI (3件):
C23C16/503 ,  C23C16/54 ,  H05H1/46 M
Fターム (12件):
4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030KA10 ,  4K030KA12 ,  4K030KA16 ,  4K030KA18 ,  4K030KA19 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47

前のページに戻る