特許

J-GLOBAL ID：201103071210897621

積層体の製造方法

発明者： 草香 央 ,  幸田 清一郎 ,  板谷 清司
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-039606
公開番号（公開出願番号）：特開2011-173345
出願日： 2010年02月25日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：

【課題】 表面硬度、耐摩耗性、耐擦傷性、透明性及び/又は軽量性等を必要とする各種用途に好適なプラスチック基材の積層体の製造方法を提供する。【解決手段】プラスチック基材とオルガノシロキサン組成物からなる層とが積層されてなる積層体の製造方法において、前記オルガノシロキサン組成物からなる層が酸素分圧を調整した状態での真空紫外光照射により硬化されて形成されることを特徴とする積層体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

プラスチック基材とオルガノシロキサン組成物からなる層とが積層されてなる積層体の製造方法において、前記オルガノシロキサン組成物からなる層が酸素分圧を調整した状態での真空紫外光照射により硬化されて形成されることを特徴とする積層体の製造方法。

IPC (2件)：

B32B 27/00 ,  C08J 7/04

FI (2件)：

B32B27/00 101 ,  C08J7/04 K

Fターム (28件)：

4F006AA02 ,  4F006AA12 ,  4F006AA22 ,  4F006AA34 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA37 ,  4F006AA38 ,  4F006AB39 ,  4F006BA02 ,  4F006CA04 ,  4F006EA03 ,  4F100AA20B ,  4F100AH02B ,  4F100AH06B ,  4F100AK01A ,  4F100AK45A ,  4F100AK52B ,  4F100BA02 ,  4F100DE01B ,  4F100EH46 ,  4F100EJ54B ,  4F100GB08 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JK09 ,  4F100JK12 ,  4F100YY00B