特許
J-GLOBAL ID：201103071305945097

画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法、記憶媒体、及びプログラム

発明者：
新畠 弘之

新畠 弘之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-180431
公開番号（公開出願番号）：特開2002-374418
特許番号：特許第4497756号
出願日： 2001年06月14日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】X線撮影により撮像された画像データを構成する画素の値に基づき低周波成分を算出する平滑化手段と、 上記平滑化手段により得られた低周波成分及び当該低周波成分に対応する上記画像データの画素の値に基づき高周波成分を生成する高周波成分生成手段と、 上記低周波成分と上記高周波成分とを加算する画像合成手段とを備え、 上記画像データの画素値が所定値以下であるS/N比の低い低画素値範囲のときに、上記高周波成分が零となるように上記高周波成分を生成し、上記低画素値範囲内で画素値が小さくなるのに従って上記低周波成分を算出する際に用いる平滑化係数としてマスクサイズを大きくすることを特徴とする画像処理装置。
IPC (4件)：
H04N 1/409 ( 200 6.01) ,  G06T 5/00 ( 200 6.01) ,  G06T 5/20 ( 200 6.01) ,  A61B 6/00 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H04N 1/40 101 C ,  H04N 1/40 101 D ,  G06T 5/00 300 ,  G06T 5/20 B ,  A61B 6/00 350 N
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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