特許

J-GLOBAL ID：201103071378123621

位相シフトマスク検査装置及び位相シフトマスク検査方法

発明者： 江口 満男 ,  小林 優人 ,  池田 紀雄 ,  清原 正光 ,  会田 雄二 ,  高橋 浩三 ,  法元 盛久 ,  山本 英樹 ,  村井 史昌
出願人/特許権者： ライトロン株式会社 ,  エスオーエル株式会社
代理人 (1件)： 大澤 敬
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196668
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015270
特許番号：特許第4518704号
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】検査対象の位相シフトマスクを検査領域の全面に亘り略均一な光量で照明する照明手段と、前記位相シフトマスクを観察するための対物レンズと、前記対物レンズによる前記位相シフトマスクの像を読み取る撮像手段と、該手段によって読み取った像の画像解析を行う画像解析手段とを備え、 前記照明手段と前記対物レンズと前記撮像手段とによって構成される光学系のレーリーの解像限界は、前記位相シフトマスク上の検査対象のパターンを解像しない値であり、 前記画像解析手段は、前記撮像手段によって読み取った像の光強度分布を解析することによって前記位相シフトマスクのローカル位相欠陥を検査する手段であることを特徴とする位相シフトマスク検査装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  G01N 21/956 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A