特許

J-GLOBAL ID：201103071606454579

水素化処理触媒及び方法

発明者： ユージン・ネベシュ ,  ロバート・エイ・プランド ,  スチーブン・エル・マクマホン
出願人/特許権者： エンゲルハード・コーポレーシヨン
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-070304
公開番号（公開出願番号）：特開平1-310743
特許番号：特許第2888536号
出願日： 1989年03月22日
公開日（公表日）： 1989年12月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】担体上に支持された少なくとも1種のVI族金属、金属酸化物又は金属硫化物と、少なくとも1種のVIII族金属、金属酸化物又は金属硫化物を含有して成る水素化処理触媒であって、(A)該触媒は組み合わせた金属約10重量%乃至約35重量%を含有して成り、VIII族金属対VI族金属の原子比は約0.5:1乃至約2:1の範囲にあり、(B)前記担体はハロゲン約0.5重量%乃至約10重量%と、シリカ約0.5重量%乃至約5重量%と、アルミナ約85重量%乃至約99重量%を含有して成り、(C)該触媒は約30オングストローム乃至約65オングストロームの中位細孔半径と約120m2/g乃至約180m2/gの表面積を有することを特徴とする水素化処理触媒。

IPC (9件)：

B01J 27/06 ,  B01J 23/85 ,  C10G 45/34 ,  C10G 45/38 ,  C10G 45/46 ,  C10G 45/50 ,  C10G 47/12 ,  C10M 101/02 ,  C10N 60:02

FI (8件)：

B01J 27/06 Z ,  B01J 23/85 Z ,  C10G 45/34 ,  C10G 45/38 ,  C10G 45/46 ,  C10G 45/50 ,  C10G 47/12 ,  C10M 101/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭48-006996
  
• 特開昭48-005804
  
• 特開昭50-065508