特許
J-GLOBAL ID:201103071618504032

真空炉における被処理物の冷却方法及び真空炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐竹 弘
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-026367
公開番号(公開出願番号):特開平2-205623
特許番号:特許第2808632号
出願日: 1989年02月03日
公開日(公表日): 1990年08月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】真空炉内の処理為物存置空間に、被処理物を速く冷却させる為の冷却用ガスを流通させて、該空間に存置されている被処理物を冷却する方法において、上記被処理物の温度を継続的に検出し、上記被処理物の降温速度が予め定めた直線的な降温速度となるよう、上記空間における冷却用ガスの流速と、冷却用ガスの圧力とを制御することを特徴とする真空炉における被処理物の冷却方法。
IPC (4件):
C21D 1/773 ,  B22F 3/24 ,  C21D 1/00 119 ,  F27D 19/00
FI (6件):
C21D 1/773 A ,  B22F 3/24 A ,  C21D 1/00 119 ,  C21D 1/773 J ,  F27D 19/00 A ,  F27D 19/00 D

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