特許

J-GLOBAL ID：201103071628730600

荷電粒子ビーム描画用データの生成方法および荷電粒子ビーム描画用データ生成装置

発明者： 五味 さおり ,  原 重博
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-063059
公開番号（公開出願番号）：特開2011-198952
出願日： 2010年03月18日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：

【課題】これまでよりも効率的な誤差原因の探求に寄与することができる荷電粒子ビーム描画用データの生成方法を提供する。【解決手段】平面座標系に従って回路パターン73のレイアウトを特定する第1レイアウトデータを取得する。平面座標系に従って測定用マーク75のレイアウトを特定する第2レイアウトデータを取得する。平面座標系に従って測定用マーク75を囲む枠図形74のレイアウトを特定する第3レイアウトデータを取得する。枠図形74で囲まれる領域から回路パターン73を削除する。回路パターン73のレイアウトに対して枠図形74で囲まれる領域に測定用マーク75を合成する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

平面座標系に従って回路パターンのレイアウトを特定する第1レイアウトデータを取得する工程と、 前記平面座標系に従って測定用マークのレイアウトを特定する第2レイアウトデータを取得する工程と、 前記平面座標系に従って前記測定用マークを囲む枠図形のレイアウトを特定する第3レイアウトデータを取得する工程と、 前記平面座標系に従って、前記枠図形で囲まれる領域から前記回路パターンを削除する工程と、 前記平面座標系に従って、前記回路パターンのレイアウトに対して前記枠図形で囲まれる領域に前記測定用マークを合成する工程と を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画用データの生成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/30

FI (2件)：

H01L21/30 541J ,  H01J37/30 A

Fターム (5件)：

5C034AB02 ,  5F056AA01 ,  5F056BD01 ,  5F056BD09 ,  5F056CA02