特許

J-GLOBAL ID：201103071646799056

高解像度フレキソ印刷版の製造方法及びこの方法で得られたフレキソ印刷版

発明者： 丸野 正徳 ,  吉田 純
出願人/特許権者： 日本電子精機株式会社
代理人 (1件)： 清原 義博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-265601
公開番号（公開出願番号）：特開2011-107654
出願日： 2009年11月20日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：

【課題】 従来の製版方法では、製版時に版表面に存在する酸素を除去する構造又は製版工程を有していないことから、露光時の版表面に存在する酸素により感光性樹脂層の効果反応が阻害され、高解像度のレリーフが形成されたフレキソ印刷版を得ることができない。【解決手段】赤外レーザー融除層にマスクを形成後、十分な酸素遮断を行うことにより、解像度に優れたレリーフが形成された高解像度フレキソ印刷版を得ることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

少なくとも支持体層、感光性層、マスク形成層を有するフレキソ樹脂版を用いて、感光性層上にマスクを形成する工程と、 前記マスクと前記感光性層上に酸素遮断層を形成する工程と、 非赤外線により前記フレキソ樹脂版を全面露光する工程と、 前記酸素遮断層、マスク、マスクにより保護された未硬化の感光性層を除去して得られたフレキソ印刷版のドットの先端部分が平坦に形成されることを特徴とする高解像度フレキソ印刷版の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/00 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/11

FI (3件)：

G03F7/00 502 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11 501

Fターム (18件)：

2H096AA02 ,  2H096BA01 ,  2H096EA02 ,  2H096KA04 ,  2H096KA23 ,  2H125AM72N ,  2H125AN10N ,  2H125AN11N ,  2H125AP02P ,  2H125BA01N ,  2H125BA12P ,  2H125CA02 ,  2H125CB01 ,  2H125CB02 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H125CC29 ,  2H125DA06