特許

J-GLOBAL ID：201103071785356800

微細構造部を有する被洗浄体の洗浄方法と洗浄装置

発明者： 村本 准一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (3件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信 ,  松隈 秀盛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-386598
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188136
特許番号：特許第3969085号
出願日： 2001年12月19日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】微細構造部を有する被洗浄体の洗浄方法にあって、 上記被洗浄体の洗浄面に超臨界流体を供給して上記洗浄面上に超臨界流体層を形成すると共に、上記被洗浄体の洗浄面上の超臨界流体層中に、レーザ光を集光させて、該集光部におけるレーザ光の電界強度の大なる部分を上記超臨界流体層中に生じさせることを特徴とする微細構造部を有する被洗浄体の洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B01J 3/00 ( 200 6.01) ,  B01J 19/12 ( 200 6.01) ,  B08B 7/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 641 ,  B01J 3/00 A ,  B01J 19/12 B ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/30 541 S