特許
J-GLOBAL ID：201103071927757654

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物

発明者：
大久保 和喜

大久保 和喜 について

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佐藤 和史

佐藤 和史 について

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新田 和行

新田 和行 について

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緒方 寿幸

緒方 寿幸 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142217
特許番号：特許第3998901号
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上にレジスト層を500〜5800Åの厚さに設けた感光性基材であって、該レジスト層を形成するレジスト組成物が、(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ可溶性ノボラック樹脂および(C)少なくとも一つの酸解離性溶解抑制基を有し(A)成分から発生した酸の作用により該溶解抑制基が解離し有機カルボン酸を発生し得る化合物を含んでなるポジ型レジスト組成物であり、(C)成分が、重量平均分子量100〜1500の範囲の化合物であって、少なくとも一つの酸解離性溶解抑制基を有する胆汁酸エステルであることを特徴とする感光性基材。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (17件)
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