特許
J-GLOBAL ID：201103071984114174
光学活性ケトンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-032891
公開番号（公開出願番号）：特開2011-168519
出願日： 2010年02月17日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：
【課題】光学活性ケトンを効率的に製造する手段を提供する。【解決手段】(R1)(R2)>C=C(R3)-C*(R4)-CO-R5(R1はアリール基;R2は水素原子又はアルキル基;R3はアルキル基;R4及びR5はアリール基又はアルキル基;*は不斉炭素を示す)で表されるケトン化合物の製造方法であって、(R1)(R2)CH-C(R3)=C(R4)-CO-R5 で表されるエノン化合物を下記式(R6はアルキル基、Arはアリール基を示す)で表される化合物を配位子として含む金属錯体の存在下でオレフィンの不斉転位を行う工程を含む方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記の一般式(I):
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (21件)：
4C031EA03
, 4H006AA02
, 4H006AC14
, 4H006AC21
, 4H006AC41
, 4H006AC81
, 4H006BA07
, 4H006BA08
, 4H006BA45
, 4H006BA46
, 4H006BA47
, 4H006BA48
, 4H006BA62
, 4H039CA21
, 4H039CA60
, 4H039CD90
, 4H039CF30
, 4H039CJ10
, 4H050AA02
, 4H050AB40
, 4H050AD15
