特許

J-GLOBAL ID：201103072342156104

チタン酸化被膜の形成方法およびチタン電解コンデンサ

発明者： 新井 良幸
出願人/特許権者： 東邦チタニウム株式会社
代理人 (2件)： 倉内 基弘 ,  風間 弘志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-385056
公開番号（公開出願番号）：特開2002-180291
特許番号：特許第4554063号
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】表面に厚さ50nm以上の酸化被膜を有する金属チタン基体を真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で焼成して、該酸化被膜の厚さを50nm未満とし、その後該焼成した金属チタン基体表面を酸化処理することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。

IPC (3件)：

C25D 11/26 ( 200 6.01) ,  H01G 9/04 ( 200 6.01) ,  H01G 9/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C25D 11/26 302 ,  H01G 9/04 301 ,  H01G 9/24 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• チタン電解コンデンサの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-281303   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平3-177557
  
• 特公昭53-023773