特許
J-GLOBAL ID：201103072821430539
N(CF3)2アニオンの生成およびその使用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 昭夫
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-597252
特許番号：特許第4642241号
出願日： 2000年01月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 N(CF3)2アニオンの生成方法であって、
下記の一般式のスルホンアミド:
RFSO2N(CF3)2
(式中、RF=FまたはCnF2n+1、n=1〜4)
を、下記の一般式の金属フッ化物:
MFx
(式中、M=Na、K、Rb、Cs、Ag、Cu、Hg、かつ
x=1または2、ただし、MがNa、K、Rb、CsまたはAgを意味する場合にはx=1であり、MがCuまたはHgを意味する場合にはx=2である)
と反応させて、下記の一般式のイミノ塩:
Mx+[-N(CF3)2]x
および下記の一般式の対応するスルホニルフルオリド:
RFSO2Fを生成させること、
または、
下記の式のスルホンジアミド:
(CF3)2N(SO2CF2)mSO2N(CF3)2
(式中、m=0、1)
を金属フッ化物
MFx
と反応させて、イミノ塩:
Mx+[-N(CF3)2]x
および対応するスルホニルジフルオリド:
F(SO2CF2)mSO2F
を生成させること、
または
下記の一般式のN,N-ビス(トリフルオロメチル)ペルフルオロアシルアミド:
RFCON(CF3)2
を金属フッ化物
MFx
と反応させて、イミノ塩:
Mx+[-N(CF3)2]x
および下記の一般式の塩:
(RFCF2O-)xMx+
を生成させること
を特徴とする方法。
IPC (4件)：
C07C 209/68 ( 200 6.01)
, C07C 209/62 ( 200 6.01)
, C07C 211/27 ( 200 6.01)
, C07C 211/65 ( 200 6.01)
C07C 209/68
, C07C 209/62
, C07C 211/27
, C07C 211/65
