特許
J-GLOBAL ID：201103072857842175
金属微粒子の製造装置、金属微粒子の製造方法、及び、複合微粒子の製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-202559
公開番号（公開出願番号）：特開2011-052281
出願日： 2009年09月02日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：
【課題】金属微粒子を製造する製造時間を短縮できる金属微粒子の製造装置、金属微粒子の製造方法、及び、複合微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】金属微粒子の製造装置1は、レーザ光Lを照射するレーザ装置2と、レーザ光Lのビーム径を拡大するビームエキスパンダ4と、拡大されたレーザ光Lのエネルギー分布を長軸方向で平均化する長軸用ホモジナイザ6とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ光を照射するレーザ装置と、
前記レーザ光のビーム径を拡大するビームエキスパンダと、
前記拡大されたレーザ光のエネルギー分布を第1の方向で平均化する第1エネルギー平均化手段とを備えていることを特徴とする金属微粒子の製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4K017AA03
, 4K017AA06
, 4K017AA08
, 4K017BA02
, 4K017BA05
, 4K017CA08
, 4K017EF05
, 4K018BB05
, 4K018BC26
