特許
J-GLOBAL ID:201103073037988139

光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-192120
公開番号(公開出願番号):特開2003-001713
特許番号:特許第3565186号
出願日: 2001年06月26日
公開日(公表日): 2003年01月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】被固化剤に偏向手段を介してレーザビームを照射して固化させた固化層を複数層積み重ねて所望の三次元形状モデルを形成する光造形システム用のレーザビームの偏向制御方法であって、予め所定の方法にて加工面でのレーザビーム照射位置の較正作業を行って、その状態で三次元モデル形成スタート直前に照射ターゲット上にレーザビームを照射し、照射ターゲット上の照射位置を複数箇所で測定してスタート時照射位置情報を取得する段階と、三次元モデルの形成動作中において、照射ターゲット上にレーザビームを照射してその照射位置を複数箇所で測定してモデル形成時照射位置情報を取得する段階と、スタート時照射位置情報とモデル形成時照射位置情報とを比較して、その差分データを得るとともに測定点以外の点での差分データを推定する差分データ取得段階と、差分データからレーザビーム照射位置とレーザビームの偏向用のミラーの回転角との関係に基づいてミラーの補正角を決定してこの補正角に基づいてレーザビームの偏向制御の補正を行う偏向制御段階とを有して、モデル形成時照射位置情報の取得段階と、差分データ取得段階と、偏向制御段階とからなる途中補正動作を、予め定めた所定時間毎、もしくは所定数の層の固化処理の完了毎に行うとともに、レーザビームの偏向手段を構成するミラーの温度情報に基づいた時点で行うことを特徴とする光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法。
IPC (2件):
B29C 67/00 ,  B29K 101:10
FI (2件):
B29C 67/00 ,  B29K 101:10
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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