特許
J-GLOBAL ID：201103073041094835
アップフロー段蒸気の不純物を非接触除去する多段アップフローおよびダウンフロー水素化処理
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-578402
特許番号：特許第4422909号
出願日： 1999年10月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 少なくとも1つの並流アップフロー水素化処理反応段、少なくとも1つの気-液接触段、および少なくとも1つのダウンフロー水素化処理反応段からなり、炭化水素質液体からなる原料から1種以上の不純物を除去するための多段水素化処理プロセスであって、
(a)前記原料を、第一反応段を構成する並流アップフロー水素化処理反応段において、水素化処理触媒の存在下に、前記原料より低い不純物含有量の第一段流出物(該流出物は、第一段で水素化処理された炭化水素質液体および蒸気からなり、そのいずれも依然として前記不純物を含み、かつ前記蒸気は水素化処理された炭化水素質原料成分を含み、さらに前記不純物は前記液体および蒸気流出物の間で平衡状態にある)を形成するのに有効な反応条件で水素と反応させる工程と、
(b)前記第一段の液体および蒸気流出物を分離する工程と、
(c)前記蒸気流出物を、接触段において、炭化水素質接触液体と、前記蒸気中の不純物が炭化水素質接触液体に移行するような条件下で接触させて、不純物含有量が増加した炭化水素質接触液体、および前記第一段蒸気流出物より低い不純物含有量の水素化処理された炭化水素質原料成分を含む蒸気からなる接触段流出物を形成する工程と、
(d)前記第一段で水素化処理された炭化水素質液体および接触段の液体流出物を組合わせ、それらをダウンフロー水素化処理反応段に通す工程と、
(e)前記組合わされた液体流出物を、前記ダウンフロー水素化処理反応段において、水素化処理触媒の存在下に、水素化処理された炭化水素質液体および水素化処理された炭化水素質原料成分を含む蒸気からなるダウンフロー反応段流出物(前記液体および蒸気原料成分は、前記原料および各アップフロー段流出物より低い不純物含有量を有する)を形成するのに有効な反応条件で水素と反応させる工程と、を含む多段水素化処理プロセス。
IPC (2件)：
C10G 65/04 ( 200 6.01)
, C10G 45/02 ( 200 6.01)
