特許
J-GLOBAL ID:201103073101559930

インプリント装置および物品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-189990
公開番号(公開出願番号):特開2011-097025
出願日: 2010年08月26日
公開日(公表日): 2011年05月12日
要約:
【課題】許容範囲を外れるオーバーレイ誤差の発生を速やかに検知する技術を提供する。【解決手段】基板に形成されたマークを検出する検出器172と、インプリントサイクルとインプリントサイクルとの間において、前記検出器にマークを検出させて、その検出結果に基づいて、基板の上の層に形成されたパターンと当該層よりも上の層に新たに形成されたパターンとのずれであるオーバーレイ誤差を求めるオーバーレイ計測を実行する制御部CNTとを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原版と樹脂とを接触させた状態で該樹脂を硬化させることによって基板の1つのショット領域にパターンを形成するインプリントサイクルを繰り返すことによって基板の複数のショット領域にパターンを形成するインプリント装置であって、 基板に形成されたマークを検出する検出器と、 インプリントサイクルとインプリントサイクルとの間において、前記検出器にマークを検出させて、その検出結果に基づいて、基板の上の層に形成されたパターンと当該層よりも上の層に新たに形成されたパターンとのずれであるオーバーレイ誤差を求めるオーバーレイ計測を実行する制御部と、 を備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 502D
Fターム (2件):
5F046AA28 ,  5F146AA28
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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