磁気ディスクの製造方法及びそれに使用するスパッタリング装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-012800
公開番号（公開出願番号）：特開2001-202618
特許番号：特許第4217361号
出願日： 2000年01月21日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板の表面に少なくとも磁性膜を形成した後、この磁性膜上にスパッタリング装置を使用してスパッタリングにより非導電性膜を形成する磁気ディスクの製造方法であって、ターゲットが貼着されるとともに極性が反転するように転極される電極を備えたスパッタリング装置を使用して非導電性膜としての保護膜を形成するとともに、前記電極の極性を1〜100kHzの周波数で反転させることを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

IPC (2件)：