大面積グラフェンの製造方法及び転写方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：渡邊隆 , 実広信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-251597
公開番号（公開出願番号）：特開2011-105590
出願日： 2010年11月10日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：

【課題】大面積グラフェンの製造方法及び転写方法を提供する。【解決手段】基板上にグラフェン層、保護層及び接着層を順次に形成した後、基板を除去し、次に、転写基板上に、グラフェン層が接触するように、グラフェン層を整列する段階を含む大面積グラフェン転写方法である。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板上にグラフェン層を形成する段階と、前記グラフェン層上に、保護層及び接着層を順次に形成する段階と、前記基板を前記グラフェン層から除去する段階と、転写基板上に、前記グラフェン層が接触するように、前記グラフェン層を整列する段階と、前記接着層及び保護層を順次に除去する段階と、を含む大面積グラフェン転写方法。

IPC (1件)：

C01B 31/04

FI (1件)：

C01B31/04 101Z

Fターム (17件)：

4G146AA02 , 4G146AB07 , 4G146AD05 , 4G146AD28 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BB22 , 4G146BB23 , 4G146BC08 , 4G146BC44 , 4G146CB12 , 4G146CB15 , 4G146CB20 , 4G146CB21 , 4G146CB23 , 4G146CB26 , 4G146CB29

引用特許：

審査官引用 (14件)

グラフェン層の剥離方法、グラフェンウエハの製造方法、グラフェンウエハ、及び、グラフェン素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-148308 出願人：株式会社沖データ, 株式会社沖デジタルイメージング
グラフェンシート及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-277065 出願人：三星電子株式会社
グラフェン基板及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-039263 出願人：株式会社デンソー

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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