特許
J-GLOBAL ID:201103073974209692

オルガノハロシランの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-171419
公開番号(公開出願番号):特開2001-354676
特許番号:特許第3379515号
出願日: 2000年06月08日
公開日(公表日): 2001年12月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 反応器内に金属珪素粉末と銅触媒とを含む触体を仕込み、オルガノハライドを含むガスを導入して、下記一般式(1)RnHmSiX4-n-m (1)(式中、Rは炭素数1〜6の1価炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し、n,mはそれぞれ0〜3の整数で、n+m=1〜3を満足する。)で示されるオルガノハロシランを製造する方法において、金属珪素及び触媒成分からなる触体が、下記一般式(2)MxL1yL2z (2)[但し、L1は下記一般式(3);;化1::(式中、R1,R2,R3,R4は1価炭化水素基、Y2は2価有機基を示し、aは0又は1、bは0以上の整数である。)で示されるオルガノホスフィノ化合物であり、MはこのL1と配位結合を形成する金属原子、L2はMに直接結合している水素原子、ハロゲン原子又はπ受容性配位子を示す。xは1以上の整数であり、y,zは1≦y、0≦zで、かつ1≦y+z≦6xを満たす整数である。]で示される錯体を含むことを特徴とするオルガノハロシランの製造方法。
IPC (6件):
C07F 7/16 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/72 ,  B01J 31/24 ,  C07F 7/12 ,  C07B 61/00 300
FI (6件):
C07F 7/16 ,  B01J 21/06 X ,  B01J 23/72 X ,  B01J 31/24 X ,  C07F 7/12 K ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (1件)

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