デポジションアシスト蒸着装置及び薄膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高橋昌久 , 花田久丸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-323237
公開番号（公開出願番号）：特開2001-140061
特許番号：特許第4351777号
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも一種類の蒸着材料の蒸発粒子ガスのみからなるプラズマを形成する高周波イオンプレーティング蒸着装置において、真空となる接地されていないチャンバー、当該チャンバー内に配置されている蒸着被膜の原料となるべき蒸発材料を収納する接地されたボート、該ボートを加熱する手段、蒸着被膜を形成すべき基材を保持する導電性部材からなる基材保持手段及びチャンバーと同電位の導電性部材からなり絶縁性部材を介して該基材保持手段を支持する支持手段並びに、高周波電力供給電源であって片極が接地され片極が高周波電力供給用インピーダンスマッチング装置を経、直流遮蔽フイルターを介して高周波基材保持手段へ接続することにより直接基材に高周波電力を供給するように構成した高周波電力供給電源、陽極を接地し陰極を高周波遮蔽フィルターを介して基材保持手段へ接続することにより基材・ボート間に直流電圧を印加するように構成した直流電圧印加電源及び前記高周波電力供給用インピーダンスマッチング装置を具えた、チャンバー内プラズマの電子がボート上の蒸発源に集中して衝突するようにしたことを特徴とするデポジションアシスト蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C 14/32 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C23C 14/32 A

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭57-049219
特開昭60-155671
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-138661 出願人：新明和工業株式会社

審査官引用 (3件)

特開昭57-049219
特開昭60-155671
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-138661 出願人：新明和工業株式会社

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