気体化合物の貯蔵と送出のシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 田中克郎 , 大賀眞司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-007073
公開番号（公開出願番号）：特開平11-264500
特許番号：特許第3916788号
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】半導体材料又は半導体装置を製造するためのシステムであって、 1気圧より低い圧力である容器の内部圧力で、半導体材料又は半導体装置を製造するための収着済み気体を保持する物理的収着媒体を含む容器と、 1気圧より低い圧力で、前記物理的収着媒体から脱離された気体を、前記容器から放出する計量分配アセンブリーと、前記計量分配アセンブリーと気体流れで連通して連結し、半導体材料又は半導体装置の製造のために前記気体を利用する半導体製造装置と、を備え、前記物理的収着媒体が、前記容器の内部圧力で、25°Cで1年後に、収着済み気体を5重量%以上分解する水、金属及び酸化物からなる遷移金属種を含まないシステム。

IPC (3件)：