特許
J-GLOBAL ID：201103075475310393
放射線硬化型インク組成物、ならびにインクジェット記録方法および記録物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
布施 行夫
, 大渕 美千栄
, 永田 美佐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-297009
公開番号（公開出願番号）：特開2011-137069
出願日： 2009年12月28日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：
【課題】記録した画像において柔軟性、伸張耐久性、耐擦性に優れると共に、LEDのようなエネルギーの低い光源を使用した場合であっても硬化性に優れた放射線硬化型インク組成物を提供するものである。【解決手段】本発明に係る放射線硬化型インク組成物は、反応成分中に(A)1質量%以上10質量%以下のアミノアクリレート、(B)20質量%以上50質量%以下のフェノキシエチルアクリレート、(C)1質量%以上20質量%以下のテトラエチレングリコールジアクリレート、反応成分100質量部に対して(E)3質量部以上8質量部以下のビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ジフェニルフォスフィンオキサイド、(F)3質量部以上5質量部以下の2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、(G)1質量部以上3質量部以下のジエチルチオキサントンを含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)反応成分中に1質量%以上10質量%以下のアミノアクリレートと、
(B)反応成分中に20質量%以上50質量%以下のフェノキシエチルアクリレートと、
(C)反応成分中に1質量%以上20質量%以下のテトラエチレングリコールジアクリレートと、
(E)反応成分100質量部に対して3質量部以上8質量部以下のビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイドと、
(F)反応成分100質量部に対して3質量部以上5質量部以下の2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドと、
(G)反応成分100質量部に対して1質量部以上3質量部以下のジエチルチオキサントンと、
を含有する、放射線硬化型インク組成物。
IPC (3件)：
C09D 11/00
, B41M 5/00
, B41J 2/01
C09D11/00
, B41M5/00 E
, B41M5/00 A
, B41J3/04 101Y
2C056EA13
, 2C056FC01
, 2H186AB11
, 2H186BA08
, 2H186DA10
, 2H186FA18
, 2H186FB08
, 2H186FB15
, 2H186FB36
, 2H186FB44
, 2H186FB46
, 2H186FB54
, 4J039AD10
, 4J039AD21
, 4J039BC02
, 4J039BC20
, 4J039BC54
, 4J039BC56
, 4J039EA04
, 4J039EA36
, 4J039EA46
, 4J039EA48
, 4J039GA24
