特許

J-GLOBAL ID：201103076257200353

無酸化高周波熱処理方法及び装置

発明者： 小坂井 丈治 ,  山室 優克 ,  山口 俊夫 ,  荒田 修司 ,  宮地 昭彦
出願人/特許権者： 電気興業株式会社 ,  アイシン・エィ・ダブリュ株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-232296
特許番号：特許第3059167号
出願日： 1999年08月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 不活性ガス又は還元性ガスを雰囲気とする雰囲気室内に、昇降可能なワーク保持治具にて保持されたワークを配置し、前記ワークの被加熱部を高周波誘導加熱した後に、前記ワークの加熱部分にワーク冷却液を噴射して冷却するようにした無酸化高周波熱処理方法において、高周波誘導加熱時には、前記ワーク保持治具に取付けられた液受け槽に前記ワーク冷却液を溜めて前記液受け槽に溜められたワーク冷却液にて前記雰囲気室を大気から遮蔽すると共に、前記ワーク保持治具に設けられたワーク冷却液排出口に開閉弁を設置して前記開閉弁にて前記雰囲気室を大気から遮蔽し、冷却時には、前記開閉弁を開弁状態に切換えることにより、前記ワーク保持治具内に溜められたワーク冷却液を前記ワーク保持治具の外部に排出して、前記ワーク保持治具内に雰囲気室を形成するようにしたことを特徴とする無酸化高周波熱処理方法。

IPC (3件)：

C21D 1/10 ,  C21D 1/667 ,  H05B 6/10 331

FI (4件)：

C21D 1/10 J ,  C21D 1/10 C ,  C21D 1/667 ,  H05B 6/10 331