特許
J-GLOBAL ID:201103076480128427

液晶表示装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-157426
公開番号(公開出願番号):特開2011-013450
出願日: 2009年07月02日
公開日(公表日): 2011年01月20日
要約:
【課題】製造工程の簡略化を達成しつつ、基板表面の凹凸を低減させることが可能な液晶表示装置を提供することである。【解決手段】 複数のゲート線と、前記ゲート線に交差する複数のドレイン線と、前記ゲート線と前記ドレイン線との交差部付近にそれぞれ形成された薄膜トランジスタと、隣接する一対の前記ゲート線と隣接する一対の前記ドレイン線とで囲まれた画素領域毎に形成された着色膜とを備え、隣接する画素の着色膜の端部を重ねてなる領域が前記ドレイン線に重畳して形成される液晶表示装置であって、前記ゲート線と前記ドレイン線とを電気的に分離する層間絶縁膜が前記薄膜トランジスタの上層に形成され、前記ドレイン線の形成領域に沿って前記層間絶縁膜に凹部が形成され、該凹部に前記ドレイン線が形成されてなる液晶表示装置である。【選択図】図4
請求項(抜粋):
複数のゲート線と、前記ゲート線に交差する複数のドレイン線と、前記ゲート線と前記ドレイン線との交差部付近にそれぞれ形成された薄膜トランジスタと、隣接する一対の前記ゲート線と隣接する一対の前記ドレイン線とで囲まれた画素領域毎に形成された着色膜とを備え、隣接する画素の着色膜の端部を重ねてなる領域が前記ドレイン線に重畳して形成される液晶表示装置であって、 前記ゲート線と前記ドレイン線とを電気的に分離する層間絶縁膜が、前記薄膜トランジスタの上層に形成され、 前記ドレイン線の形成領域に沿って前記層間絶縁膜に凹部が形成され、該凹部に前記ドレイン線が形成されてなることを特徴とする液晶表示装置。
IPC (5件):
G02F 1/136 ,  G02B 5/20 ,  G02F 1/133 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (5件):
G02F1/1368 ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505 ,  H01L29/78 612C ,  H01L29/78 627A
Fターム (54件):
2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H092GA14 ,  2H092JA24 ,  2H092JB33 ,  2H092JB54 ,  2H092JB57 ,  2H092KA04 ,  2H092KB04 ,  2H092KB13 ,  2H092KB24 ,  2H092KB25 ,  2H092KB26 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092NA07 ,  2H092NA19 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  2H092PA08 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA05Y ,  2H191FB04 ,  2H191FB22 ,  2H191FD20 ,  2H191GA01 ,  2H191GA10 ,  2H191GA19 ,  2H191LA13 ,  2H191LA19 ,  2H191LA40 ,  5F110AA16 ,  5F110AA18 ,  5F110BB01 ,  5F110CC01 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110DD17 ,  5F110EE04 ,  5F110FF02 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110HL03 ,  5F110HL14 ,  5F110HM17 ,  5F110HM19 ,  5F110NN03 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ19

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