特許

J-GLOBAL ID：201103076522239852

レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 畠山 潤 ,  高橋 俊明 ,  渡辺 淳 ,  大澤 洋一
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-213021
公開番号（公開出願番号）：特開2002-023354
特許番号：特許第4247592号
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ベース樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有してなるレジスト材料において、酸発生剤が下記一般式(1)及び/又は(2)で示される化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。 (式中、R1、R2は同一又は異種のフッ素原子又は炭素数1〜10のフッ素化されたアルキル基であり、0≦a≦5、0≦b≦5の整数であり、1≦a+b≦10の範囲の整数である。)

IPC (4件)：

G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R