特許
J-GLOBAL ID:201103076991097449

共役ジエンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鎌田 文二 ,  田川 孝由 ,  北川 政徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-119209
公開番号(公開出願番号):特開2011-006395
出願日: 2010年05月25日
公開日(公表日): 2011年01月13日
要約:
【課題】n-ブテン等のモノオレフィンの接触酸化脱水素反応によりブタジエン等の共役ジエンを製造する方法において、より安全に運転ができ、更に高い収率で安定的に共役ジエンの製造を行うことができる方法を提供することを目的とする。【解決手段】炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと分子状酸素含有ガスとを混合して反応器に供給し、触媒の存在下、酸化脱水素反応により生成した対応する共役ジエンを含む生成ガスを得る工程を有する共役ジエンの製造方法であり、前記反応器に供給されるガス中の可燃性ガスの濃度が爆発上限界以上であり、かつ、前記生成ガス中の酸素濃度が2.5容量%以上8.0容量%以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと分子状酸素含有ガスとを混合して反応器に供給し、触媒の存在下、酸化脱水素反応により生成した対応する共役ジエンを含む生成ガスを得る工程を有する共役ジエンの製造方法であり、前記反応器に供給されるガス中の可燃性ガスの濃度が爆発上限界以上であり、かつ、前記生成ガス中の酸素濃度が2.5容量%以上8.0容量%以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。
IPC (3件):
C07C 5/48 ,  C07C 11/167 ,  C07C 7/11
FI (3件):
C07C5/48 ,  C07C11/167 ,  C07C7/11
Fターム (20件):
4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006AD18 ,  4H006BA02 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA33 ,  4H006BA81 ,  4H006BC10 ,  4H006BC30 ,  4H006BD20 ,  4H006BD84 ,  4H006BE30 ,  4H039CA21 ,  4H039CC10
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開昭60-126235
  • 特開昭58-152825
  • 特開昭58-188826
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