特許
J-GLOBAL ID:201103077010836120
改良された水素および二酸化炭素の同時生成
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
川口 義雄
, 一入 章夫
, 小野 誠
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-567436
特許番号:特許第4056393号
出願日: 2001年12月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1のガス成分および第2のガス成分を有する供給ガス流を供給するガス源と、
前記ガス源に流体的に接続されるとともに、前記第1のガス成分の少なくとも一部を前記供給ガス流から除去することにより、第1のオフガス流と、主に前記第1のガス成分を含む第1の生成物流とを生成する第1の分離器と、
前記第1の分離器に流体的に接続されるとともに、前記第2のガス成分の少なくとも一部を前記第1のオフガス流から除去することにより、第2のオフガス流と、主に前記第2のガス成分を含む第2の生成物流とを生成する第2の分離器と、
前記第1および第2の分離器に流体的に接続されるとともに、前記第1の生成物流の少なくとも一部と前記第2のオフガス流の少なくとも一部とを受けて、主に液化された第1のガス成分を含む第3の生成物流を生成する液化装置とを含み、
液化装置が第3のオフガス流を生成し、前記第3のオフガス流の第1の部分が前記第1のオフガス流と混合され、前記第3のオフガス流の第2の部分が非排ガスとして使用されるガス生成プラント。
IPC (7件):
C10K 1/16 ( 200 6.01)
, B01D 5/00 ( 200 6.01)
, B01D 53/14 ( 200 6.01)
, C01B 3/38 ( 200 6.01)
, C01B 3/50 ( 200 6.01)
, C01B 31/20 ( 200 6.01)
, C10K 1/32 ( 200 6.01)
FI (7件):
C10K 1/16
, B01D 5/00 Z
, B01D 53/14 102
, C01B 3/38
, C01B 3/50
, C01B 31/20 C
, C10K 1/32
引用特許:
出願人引用 (12件)
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特開平1-313301
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特公昭56-027285
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メタノール水素製造設備からの二酸化炭素,水素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-146553
出願人:新日本製鐵株式会社
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水素ガス製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-017156
出願人:日本原子力研究所, 石川島播磨重工業株式会社
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特開昭62-278769
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特開平4-240101
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特公昭30-001868
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特開平2-206689
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炭酸ガスの精製方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-282223
出願人:日本酸素株式会社, 液化炭酸株式会社
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特公昭48-002662
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特開平4-018911
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特開平3-100095
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