特許
J-GLOBAL ID:201103077135166193
相異なる成分の配量及び混合方法並びに装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
江崎 光史
, 三原 恒男
, 奥村 義道
, 鍛冶澤 實
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-578118
特許番号:特許第4383669号
出願日: 1999年10月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】特にベースワニスと硬化剤とのような相異なる成分を配量し混合するとともに、予圧下にある第1成分と、予圧下にある第2成分と、第1成分のための予圧下にある溶剤とを用いてスプレー装置(6)を介して塗布する方法であって、その際弁を通って流入する成分は、計量装置(8;9)を介して検出され、先ず混合装置(7)に、その後スプレー装置(6)に供給され、その際、一方の成分が所定量供給され、他方の成分の量は前記一方の成分の量に依存して、ストップ弁(1b;2b)の開放時間によって制御されて供給される前記方法において、
第1成分が制御されるときは第2成分が所定量供給され、第2成分が制御されるときは第1成分が所定量供給されるように制御が選択できることを特徴とする前記方法。
IPC (4件):
B05D 1/02 ( 200 6.01)
, B05D 3/00 ( 200 6.01)
, B05B 7/04 ( 200 6.01)
, B05B 7/26 ( 200 6.01)
FI (5件):
B05D 1/02 D
, B05D 3/00 B
, B05D 3/00 D
, B05B 7/04
, B05B 7/26
引用特許:
前のページに戻る