特許

J-GLOBAL ID：201103077355303388

4,6-ジニトロレゾルシンの製造方法

発明者： 熊本 行宏 ,  水田 秀樹 ,  伊藤 尚登
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 苗村 新一 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123328
公開番号（公開出願番号）：特開2000-319231
特許番号：特許第3398338号
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 次の各工程からなる4,6-ジニトロレゾルシンの製造方法。(1) レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、(2) 2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンをニトロ化剤と接触させて2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第二工程、(3) 2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを加水分解して4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第三工程。

IPC (2件)：

C07C 205/23 ,  C07C 201/08

FI (2件)：

C07C 205/23 ,  C07C 201/08