特許
J-GLOBAL ID:201103077440831539

スーパーオキシドの分析方法およびスーパーオキシドの分析キット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-012288
公開番号(公開出願番号):特開2011-149867
出願日: 2010年01月22日
公開日(公表日): 2011年08月04日
要約:
【課題】バックグラウンドの低減化が可能であり、スーパーオキシドに対する特異性の高い、高感度なスーパーオキシドの分析方法を提供する。【解決手段】化学発光法によりスーパーオキシドを分析する方法であって、ニトロキシルラジカルの存在下で、発光試薬としてウミホタルルシフェリン系化合物を用いるスーパーオキシドの分析方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
化学発光法によりスーパーオキシドを分析する方法であって、 ニトロキシルラジカルの存在下で、発光試薬としてウミホタルルシフェリン系化合物を用いることを特徴とするスーパーオキシドの分析方法。
IPC (3件):
G01N 21/76 ,  G01N 31/22 ,  G01N 31/00
FI (3件):
G01N21/76 ,  G01N31/22 122 ,  G01N31/00 A
Fターム (13件):
2G042BB20 ,  2G042DA08 ,  2G042FA11 ,  2G042FB02 ,  2G054AB02 ,  2G054AB07 ,  2G054CA21 ,  2G054CB03 ,  2G054CE02 ,  2G054EA01 ,  2G054EB03 ,  2G054FA06 ,  2G054GA09
引用特許:
審査官引用 (1件)

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