特許
J-GLOBAL ID：201103077740822400
偏光変換素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-201843
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074938
特許番号：特許第3399449号
出願日： 2000年07月04日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 非偏光な光を所定の偏光光に変換するための偏光変換素子の製造方法であって、(a)複数枚の第1の透光性板材および複数枚の第2の透光性板材を1組とするk組(kは2以上の整数)の透光成部材を準備する工程と、(b)前記第1と第2の透光性板材よりも厚い(k+1)枚の第3の透光性板材を準備する工程と、(c)(k+1)枚の第3の透光性板材の各間の各々に、1組の前記複数枚の第1の透光性板材と前記複数枚の第2の透光性板材とを交互に配列して貼り合わせることによって、複数の偏光分離膜および複数の反射膜が各透光性板材の各界面に交互に設けられた複合板材を作製する工程と、(d)前記複合板材を前記複合板材の平面に対して所定の角度を有する平面に平行な第1の切断面で切断することによって、前記第1の切断面に平行な光入射面と光射出面とを有するブロック基板を作製する工程と、(e)前記ブロック基板の前記光入射面と光射出面とを研磨する工程と、(f)前記ブロック基板を、前記ブロック基板内の前記第3の透光性板材の位置で分割することによって、1個の前記ブロック基板からk個の透光性ブロックを作製する工程と、を有する偏光変換素子の製造方法。
IPC (6件)：
G02B 5/30
, G02B 27/28
, G02F 1/13 505
, G02F 1/1335 510
, G03B 21/00
, H04N 5/74
G02B 5/30
, G02B 27/28 Z
, G02F 1/13 505
, G02F 1/1335 510
, G03B 21/00 E
, H04N 5/74 A
, H04N 5/74 K
