水素分離媒体の製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：志賀正武 , 志賀正武
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-092050
公開番号（公開出願番号）：特開平2-271901
出願日： 1989年04月12日
公開日（公表日）： 1990年11月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】多孔質体からなる基体に、金属ハロゲン化物溶液、金属硝酸塩溶液、あるいは金属硫酸塩溶液を接触せしめてCu,Zn,Ni,Pd,Snの中から選択されるいずれかの金属元素の金属核を分散状態で付着形成し、次いで真空雰囲気あるいは還元雰囲気にて50〜1200°Cの温度で乾燥処理および焼付け処理を施して基体上の水分除去を行うと同時に金属核の固定を行い、次いで前記基体上にスパッタ法により厚さ50μm以下の水素吸蔵性薄膜を形成することを特徴とする水素分離媒体の製造方法。

IPC (3件)：