特許
J-GLOBAL ID：201103078208457678
希土類含有金属酸化物構造体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-077724
公開番号（公開出願番号）：特開2006-256916
特許番号：特許第4682321号
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 LPD法を用いて基板上に希土類含有金属酸化物の構造体を形成する、希土類含有金属酸化物構造体の製造方法であって、
前記LPD法における反応溶液が、希土類イオンキレート錯体と金属フッ化物錯体とを混合する工程を含む方法で製造されており、
上記反応溶液に、アルミニウム又はホウ酸からなるフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をLPD法により析出させ、
生成した薄膜を高温加熱処理した後、
その薄膜の表面にポリスチレン粒子を自己集積化させることで三次元周期構造のテンプレートを形成し、
前記反応溶液に前記テンプレートを浸漬することにより、前記ポリスチレン粒子の隙間に希土類含有金属酸化物を析出させ、
加熱処理によってポリスチレン粒子を除去することで三次元反転オパール構造体を得ることを特徴とする、希土類含有金属酸化物構造体の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 13/32 ( 200 6.01)
, C01G 25/02 ( 200 6.01)
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
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