特許

J-GLOBAL ID：201103078320049353

有機反射防止重合体およびその製造方法

発明者： 洪 聖 恩 ,  鄭 ▲みん▼ 鎬 ,  白 基 鎬
出願人/特許権者： 株式会社ハイニックスセミコンダクター
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-182835
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048859
特許番号：特許第4024456号
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記の一般式(i)に表される重合体化合物。 (上式中、Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ水素またはメチル基、 R1は水素、ヒドロキシ、またはC1〜C5の置換若しくは非置換された直鎖若しくは分岐鎖のアルキル、シクロアルキル、アルコキシアルキル、若しくはシクロアルコキシアルキル、 w、x、y、zはそれぞれ0.01〜0.99のモル比 n1、n2はそれぞれ1〜4を示している。)

IPC (11件)：

C08F 2/06 ( 200 6.01) ,  C08F 4/04 ( 200 6.01) ,  C08F 4/34 ( 200 6.01) ,  C08F 220/14 ( 200 6.01) ,  C08F 220/28 ( 200 6.01) ,  C08F 220/32 ( 200 6.01) ,  C08F 220/58 ( 200 6.01) ,  C07C 309/73 ( 200 6.01) ,  C07C 303/28 ( 200 6.01) ,  G03F 7/11 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (11件)：

C08F 2/06 ,  C08F 4/04 ,  C08F 4/34 ,  C08F 220/14 ,  C08F 220/28 ,  C08F 220/32 ,  C08F 220/58 ,  C07C 309/73 ,  C07C 303/28 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-093448
  
• レジスト表面反射防止膜形成材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-031420   出願人：昭和電工株式会社
• 光吸収性ポリマー、光吸収膜形成性組成物及び光吸収膜とそれを用いた反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-146800   出願人：クラリアントジャパン株式会社