特許

J-GLOBAL ID：201103078453958267

レジスト組成物

発明者： 市川 幸司 ,  安藤 信雄 ,  山下 裕子
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (4件)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰 ,  植木 久彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-034041
公開番号（公開出願番号）：特開2011-170111
出願日： 2010年02月18日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】得られるパターンの解像性及び形状に優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明のレジスト組成物は、芳香族化合物と酸発生剤とを含み、前記芳香族化合物が、酸に不安定な基を有し、かつ分子量が300以上2000以下であり、前記酸発生剤が、式(I)で表される構成単位を有する樹脂であることを特徴とする。[式(I)中、R1は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲン原子を有してもよいC1-6アルキル基を表す。Lは、単結合、置換基を有していてもよい2価のC1-17飽和炭化水素基を表す。Wは、置換基を有していてもよい2価のC3-36脂環式炭化水素基、又は置換基を有していてもよい2価のC6-36芳香族炭化水素基を表す。X1は、置換基を有していてもよい2価のC1-17飽和炭化水素基を表す。Rdは水素原子又はC1-6アルキル基を表す。Qa及びQbは、互いに独立に、フッ素原子又はC1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Za+は、有機カチオンを表す。*は結合手を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

芳香族化合物と酸発生剤とを含み、 前記芳香族化合物が、酸に不安定な基を有し、かつ分子量が300以上2000以下であり、 前記酸発生剤が、式(I)で表される構成単位を有する樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 12/30 ,  C08F 8/36 ,  C07D 311/96

FI (7件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F12/30 ,  C08F8/36 ,  C07D311/96

Fターム (47件)：

2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF34P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ12Y ,  2H125AJ45Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AL01 ,  2H125AL16 ,  2H125AL20 ,  2H125AL22 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C062KK01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006BJ30 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP30 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15H ,  4J100BA56H ,  4J100BB07H ,  4J100BC09P ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA61 ,  4J100HC71 ,  4J100JA38