特許
J-GLOBAL ID：201103078493641509
パターン形成体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 昭彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-378999
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178872
特許番号：特許第4231645号
出願日： 2001年12月12日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 電極層を有する基材上に、少なくとも光触媒とバインダとからなり、かつエネルギーの照射により水との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層を形成する工程と、
前記光触媒含有層上にパターン状にエネルギーを照射することにより、前記光触媒含有層に撥水性領域および親水性領域からなるパターンを形成する工程と、
前記撥水性領域に、電荷を帯電させる工程と、
前記電極層に電圧が印加されていない状態において、前記親水性領域に、ノズル吐出法により有機エレクトロルミネッセント層形成用塗工液を吐出して塗布することにより、前記親水性領域に有機エレクトロルミネッセント層のパターンを形成する工程と
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, G02B 5/20 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, G02B 5/20 101
, H05B 33/14 A
