特許
J-GLOBAL ID：201103078559670033
走査及びリピート高解像度投影リソグラフィー装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-259876
公開番号（公開出願番号）：特開平2-229423
特許番号：特許第2960083号
出願日： 1989年10月04日
公開日（公表日）： 1990年09月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】マスク上に存在するパターンの精密なイメージを基板上へ生成する高解像度、高露光速度、大有効フィールドサイズ走査及びリピートリソグラフィー装置において、該装置は、(a).基板を一次元で走査することができ、この次元で走査していない場合には、走査方向と直角な方向に横方向に移動して基板をもう一つの走査に対して位置決めすることができる基板ステージであって、前記基板ステージは基板面積をある数の平行細片に分割することにより基板全体を露光することができ且つ固定照射領域にわたって細片の長さを走査することにより前記各細片を露光することができる基板ステージと、(b).基板ステージ走査速度にある比率Mを乗じた速度で基板ステージと同じ次元でそれと同期して走査することができるマスクステージと、(c).所望の波長及び強度分布特性を有し、多角形の有効ソース面を有し、マスク上の多角形領域を均一に照射することができる照射システムと、(d).対象対イメージ縮小比Mを有し、所望のイメージ解像度を有し、多角形で前記リソグラフィーシステムの所望の有効イメージフィールドサイズよりも小さい面積のイメージフィールドを有してマスク上の前記多角形照射領域を基板上へイメージする投影サブシステムと、(e).ある速度Vxで基板の多角形照射領域を横切走査し、同時に速度MVxでマスクの多角形照射領域を平行な方向に横切走査し、次いで走査方向に沿った基板の走査完了時に基板とマスクの走査を停止し、走査方向と直角な方向にある距離だけ基板を移動させ、次いで基板及びマスクの走査を再開して、前記基板、前記マスク及び前記照射サブシステムを作動的に相関させて、隣接走査により露光されるべき領域間の重畳領域内に於て相補露光を行い、もって重畳領域内に受容される露光量分布がシームレスとなり且つ基板全体にわたって放射される露光量が均一となるようにする制御手段、とを具備する走査及びリピートリソグラフィー装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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